半導體設備產能擴張與下游需求匹配度如何評估?
- 提問時間:2026/07/22
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- 提問者:匿名用戶
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ASML計劃2027年將EUV和浸潤式DUV產能各提升30%,并研究2028年再提升30%;臺積電宣布在美國追加1000億美元投資再建4座晶圓廠,同時在中國臺灣建設13座先進制程晶圓廠;日月光將2026年資本支出上調至85億美元創歷史新高。
在頭部企業大規模擴產的背景下,如何評估半導體設備產能擴張與下游實際需求之間的匹配度?是否存在產能過剩風險,還是供不應求的局面將持續?
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