北方華創(chuàng)深度報告：半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)龍頭，平臺化布局行穩(wěn)致遠(yuǎn).pdf

北方華創(chuàng)深度報告：半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)龍頭，平臺化布局行穩(wěn)致遠(yuǎn)。半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)龍頭，平臺化布局實現(xiàn)多點開花。北方華創(chuàng)主營半導(dǎo)體裝備、真空及鋰電裝備和精密電子元器件三大業(yè)務(wù)， 在半導(dǎo)體設(shè)備方面實現(xiàn)了平臺化布局，具體產(chǎn)品包括刻蝕機、PVD、CVD、ALD、氧化/擴散爐、清洗機等多款高端半導(dǎo)體 工藝裝備，目前已成為國內(nèi)集成電路高端工藝裝備領(lǐng)域的先進企業(yè)。

晶圓廠擴產(chǎn)空間可觀，自主可控背景下設(shè)備國產(chǎn)化率有望提升。根據(jù)TechInsights的數(shù)據(jù)，2023年廣義的中國芯片自給率 預(yù)計在23.3%左右，若排除外資企業(yè)在中國大陸的產(chǎn)值，僅考慮中國本土企業(yè)，廣義的中國芯片自給率僅為12%左右，本土 晶圓廠仍存在較大的擴產(chǎn)空間，國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備廠商預(yù)計將在本土晶圓廠的擴產(chǎn)中充分受益。

ICP刻蝕國產(chǎn)領(lǐng)先，CCP刻蝕順利突破。公司深耕ICP刻蝕技術(shù)二十余年，已實現(xiàn)多個客戶端大批量量產(chǎn)并成為基線設(shè)備， 同時公司從2021年開始著力進行介質(zhì)刻蝕設(shè)備的研發(fā)，已實現(xiàn)邏輯、存儲、功率半導(dǎo)體等領(lǐng)域多個關(guān)鍵制程的覆蓋。

PVD設(shè)備優(yōu)勢顯著，CVD&ALD設(shè)備全面布局。公司作為中國PVD工藝裝備技術(shù)的先行者，在2008年就開始了PVD設(shè)備 的研發(fā)，產(chǎn)品已成為多家客戶的基線設(shè)備；CVD&ALD設(shè)備方面，公司實現(xiàn)了金屬硅化物、高介電常數(shù)原子層沉積等工藝設(shè) 備的全方位覆蓋，關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)均達(dá)到業(yè)界領(lǐng)先水平。

熱處理設(shè)備國內(nèi)領(lǐng)先，清洗設(shè)備持續(xù)覆蓋。熱處理設(shè)備方面，公司的立式爐系列化設(shè)備在邏輯和存儲工藝制程實現(xiàn)了全面覆 蓋；清洗設(shè)備方面，公司多年來先后突破了多項清洗工藝技術(shù)，實現(xiàn)了槽式工藝全覆蓋，并突破了高端單片工藝。